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工作温度：1600度
温区尺寸：两个温区总长600mm
炉管材质：高纯刚玉管
真空度：10ˉ3Pa
真空机组：旋片泵和分子泵
流 量 计：质量流量计4路混气系统
用途：应用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验用的理想产品。
该款CVD系统, 采用双温区加热形式，加热元件采用硅钼棒（1700℃以下使用）。
CVD管式炉由供气系统、加热系统、真空系统等组成；
1）加热系统为双温区结构每个温区单独进行控温；
2）高真空系统采用分子泵机组，最高极限真空可以达到10-3Pa；
3）供气系统是质量流量计，混气路数4路相混合（主要根据客户工艺要求定制）
1、加热系统炉膛采用高纯氧化铝多晶纤维制成，保温效果好，耐用节能，反射率高、温场均衡，等特点；
2、加热元件采用高温硅钼棒，最高发热温度可达1700℃；
3、数字质量流量控制系统是由4路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、加热采用上盖开启式，超温和断偶保护警报并断电，漏电保护，操作安全可靠。
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