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工作温度：1100度
加 热 区：1000mm
炉管外径：100mm
真 空 度：1Pa
测量真空：电容真空计
流 量 计：质量流量计四路混气系统
流量控制、真空显示：集成于七寸触摸屏
用途：应用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验用的理想产品。
该款CVD系统, 加热元件采用含钼电阻丝（1200℃以下使用）
CVD管式炉由供气系统、加热系统、真空系统等组成；
1）温区总长1000mm，恒温区600mm；
2）真空系统为低真空，最高极限真空可以达到1Pa，也可选择高真空机组（扩散泵或分子泵机组）；
3）供气系统是流量调节为质量流量计，混气路数4路相混合（主要根据客户工艺要求选择）。
1、加热系统炉膛采用高纯氧化铝多晶纤维制成，保温效果好，耐用节能，反射率高、温场更均匀等特点；
2、加热元件采用含钼电阻丝，最高发热温度可达1200℃；
3、质量流量控制系统是由4路质量流量计，流量和真空度显示采用七寸触摸屏等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路
均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、炉管采用高纯石英管高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小，能承受急冷急热的温度。
5、加热采用上盖开启式，超温和断偶保护警报并断电，漏电保护，操作安全可靠。
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